KIM & CHO

한·미 특허심사하이웨이 시범 개통

January 09 2009 |

특허청은 한국과 미국 양국에 공통으로 신청된 특허출원으로서 어느 한쪽 국가에서 특허가능하다는 심사결과를 받으면, 상대편 국가에서는 해당 특허출원을 다른 출원보다 먼저 심사하는 내용의 『한-미 특허심사하이웨이』를 2008년 1월 28일부터 시범 실시한다고 밝혔다. 특허심사하이웨이는 우리 국민이 우리나라의 특허 심사처리가 세계에서 가장 빠른 점을 외국에서 활용할 수 있게 한다는데 의의가 있다. 즉, 우리나라에서는 특허출원 후 보통 10개월이면 심사결과가 나오는데, 이 때 특허가능하다는 심사결과를 받았다면 미국에 특허심사하이웨이 이용을 신청할 수 있고, 이에 따라 미국에서 일반 특허출원에 비하여 적어도 13개월 더 빨리 심사를 받을 수 있게 된다. 미국에서는 일반출원의 경우 평균 25개월만에 심사를 받을 수 있는 데 비해, 특허심사하이웨이를 이용하는 경우 빠르면 3개월 내지 12개월 이내에 심사를 받을 수 있기 때문이다.

이에 따라, 우리 국민이 우리나라 다음으로 특허를 많이 출원하는 미국에서 특허기술을 일찍 사업화할 수 있게 되고, 특허분쟁에 효과적으로 대응할 수 있을 것으로 기대된다. 미 특허심사하이웨이 이용시 증빙서류 간소화이러한 특허심사하이웨이를 이용하기 위하여 출원인은 한국특허청이 특허가능하다는 판단을 내린 특허의 내용, 심사관련통지서, 영어번역문을 미국특허청에 제출하면 된다. 미국에 조기심사를 신청할 때 요구되던 ‘선행기술조사결과’ 및 ‘특허받으려는 발명과 선행기술과의 대비설명서’를 한국 심사결과에 부속된 다음 서류로 대체함으로써 신청인의 증빙서류 제출 부담이 완화된다.

(1)「한국 특허청이 특허가능하다고 판단한 특허청구범위」, 「영어 번역문」, 「번역이 정확하다는 확인서」
(2)「한국 특허청이 발부한 심사관련통지서」,「영어 번역문」, 「번역이 정확하다는 확인서」
(3) 상기 심사관련통지서에 인용된 선행기술

위 (1), (2), (3) 중 이미 미국특허청에 제출한 서류는 다시 제출하지 않고 원용 가능


※ 미국에 특허를 출원하는 경우, 출원인은 자신이 알고 있는 선행기술 등 특허성 판단에 영향을 미치는 정보를 제출할 의무가 있음

2008년 1월 28일부터 2009년 1월 28일까지 1년간의 시범실시 후 양국 특허청은 전면시행 단계로 돌입할 것인지를 결정하게 된다.

시행일: 2008년 1월 28일